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发明名称 Method of forming resist pattern on a semiconductor substrate by light exposure
摘要
申请公布号 EP0517382(B1) 申请公布日期 1997.08.27
申请号 EP19920304342 申请日期 1992.05.14
申请人 SHARP KABUSHIKI KAISHA 发明人 TABUCHI, HIROKI;IGUCHI, KATSUJI;TANIGAWA, MAKOTO
分类号 G03F7/095;G03F1/00;G03F7/00;G03F7/20;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/095 主分类号 G03F7/095
代理机构 代理人
主权项
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