摘要 |
<p>Mit den bekannten Verfahren zur Regelung von Vakuumbeschichtungsprozessen werden Meßgrößen, wie Plasmaemission und Beschichtungsrate im Plasma oder im Dampf gemessen, um mit Prozeßparametern des Verdampfens oder des Zerstäubens den Vakuumbeschichtungsprozeß zu zu regeln. Die Sensoren sind hohen Belastungen ausgesetzt, was sich ungünstig auf einen Langzeitbetrieb auswirkt. Mit der Verwendung der Gewichtskraft als Meßgröße, die sich aus dem Gewicht von Beschichtungsmaterial und Beschichtungsquelle ergibt, wird der Vakuumbeschichtungsprozeß geregelt, indem der Gewichtsverlust während der Beschichtung gemessen wird. Die Beschichtungsquelle ist in der Vakuumkammer mittels Kraftmeßzellen angeordnet, wobei aus dem von den Kraftmeßzellen gewonnenen Signal z.B. die elektrische Leistung zum Heizen des Verdampfungsgutes, die Strahlablenkung oder der Gasfluß geregelt wird, ohne daß die Sensoren mit dem Plasma oder dem Dampf in Berührung kommen. Mit dem Verfahren und der Einrichtung lassen sich Vakuumbeschichtungsprozesse, insbesondere zum Beschichten von Werkzeugen und plattenförmigen Substraten mit Funktionsschichten, regeln.</p> |