发明名称 Electrode for use in a plasma assisted chemical etching process
摘要
申请公布号 EP0624897(B1) 申请公布日期 1997.08.06
申请号 EP19940303432 申请日期 1994.05.12
申请人 IPEC PRECISION, INC. 发明人 STEINBERG, GEORGE
分类号 H01L21/302;C23F4/00;H01J27/08;H01J37/08;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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