| 发明名称 |
Dispositif d'irradiation pour la lithographie par gravure profonde aux rayons X. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2720526(B1) |
申请公布日期 |
1997.08.01 |
| 申请号 |
FR19940014903 |
申请日期 |
1994.12.12 |
| 申请人 |
JENOPTIK TECHNOLOGIE GMBH |
发明人 |
SEHER BERND;NEULAND RUDI;REUTHER FRANK;MULLER LUTZ |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;G21K5/02;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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