发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschicht, insbesondere fuer Hallspannungs-generatoren
摘要
申请公布号 DE1055095(B) 申请公布日期 1959.04.16
申请号 DE1956S048695 申请日期 1956.05.12
申请人 SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 NITSCHE DIPL.-ING. ERICH;SCHILLMANN DIPL.-ING. EKKEHARD
分类号 H01L21/18 主分类号 H01L21/18
代理机构 代理人
主权项
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