发明名称 |
CORRECTION PROCESSING METHOD FOR RESIDUAL ZERO PHASE CURRENT AND CORRECTION PROCESSING EQUIPMENT FOR RESIDUAL ZERO PHASE CURRENT |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH09200948(A) |
申请公布日期 |
1997.07.31 |
申请号 |
JP19960004623 |
申请日期 |
1996.01.16 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
YONEDA KATSUHIKO;FUJII DAISUKE |
分类号 |
G01R31/12;H02H3/38;(IPC1-7):H02H3/38 |
主分类号 |
G01R31/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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