发明名称 氮化硅陶瓷电路基片及使用该陶瓷基片的半导体器件
摘要 本申请公开了一种包括室温下的热导率为80w/mk以上氮化硅陶瓷板1和通过玻璃层3粘接到氮化硅陶瓷板上1的金属板2的电路板,及一种其中安装在所说电路基片的半导体器件。
申请公布号 CN1155759A 申请公布日期 1997.07.30
申请号 CN96114418.1 申请日期 1996.09.27
申请人 株式会社东芝 发明人 加曾利光男;堀口昭宏;角野裕康;上野文雄
分类号 H01L23/00 主分类号 H01L23/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 萧掬昌;张志醒
主权项 1.一种电路基片,包括:室温下的热导率为80W/mK以上的氮化硅陶瓷板,和通过玻璃层粘接到氮化硅陶瓷板上的金属板。
地址 日本神奈川县