发明名称 | 生产电子源基片以及带有该基片的图像形成设备的方法 | ||
摘要 | 公开了一个生产电子源基片的方法,该基片包括许多电子发射装置,每个电子发射装置都包括一对相对的电极,许多电子发射装置安排在基片上。此方法包括的步骤有:具有对应电极图案的凹进部分的照相凹版的制备,凹陷的部分的深度范围为4μm至15μm,用油墨填充凹陷部分,把膜压在照相凹版上以至于油墨从凹陷部分内转移到膜上,以及使膜与基片相接触以至于油墨从膜上转移到基片上,因而在其上形成电极图案。 | ||
申请公布号 | CN1155102A | 申请公布日期 | 1997.07.23 |
申请号 | CN95121855.7 | 申请日期 | 1995.11.24 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 柳泽芳浩;金子哲也 |
分类号 | G03F7/00;G09F9/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杨国旭 |
主权项 | 1.一种生产电子源基片的方法,所述的基片包括许多电子发射装置,每个电子发射装置包括一对相对电极,所述的这些许多的电子发射装置安排在所述的基片之上,该方法包括的步骤有:制备具有对应于所述的电极图案的凹陷部分的照相凹版,所述的凹陷部分的深度在4μm至15μm范围之内;把油墨填入所述的凹陷部分;把膜压到所述的照相凹版上,以便使油墨从凹陷部分内部转移到所述的膜上;以及使所述的膜与所述的基片接触,以便使油墨从所述的膜上转移到所述的基片上,因此在基片上形成所述的电极图案。 | ||
地址 | 日本东京都 |