发明名称 |
触发点燃CVD-等离子体的方法及装置 |
摘要 |
本发明描述触发点燃微波等离子体的方法及装置,其经济并在反应室中不会产生损害涂层质量的反应产物。等离子体是在反应室排气侧利用至少短时接通的高压触发点燃的。使用了高压脉冲或低频高压。该高压与微波脉冲同步。根据另一方法,微波脉冲至少在起始时短时地增幅,也可周期性增幅。可控高压电源与脉冲发生器的输出端相连接,延时机构及电源单元与微波装置相连接。可控高压电源的输出端与反应室的排气管相连接。 |
申请公布号 |
CN1155228A |
申请公布日期 |
1997.07.23 |
申请号 |
CN96112052.5 |
申请日期 |
1992.07.06 |
申请人 |
肖特玻璃制造厂 |
发明人 |
H·克吕梅尔;E·默森;V·帕凯;H·福格特;G·魏德曼 |
分类号 |
H05H1/46;C23C16/44 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
董巍;张志醒 |
主权项 |
1.在用作对底基涂层的反应室中触发点燃CVD-等离子体的方法,其中反应气体被送到反应室中,在该室中等离子体在触发点火后利用微波脉冲激励并被维持一预定时间间隔,其特征在于:在每个微波脉冲的时间宽度中在脉冲发生器(7)控制下周期性地短时提高微波脉冲的幅值。 |
地址 |
联邦德国美因茨 |