| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR IT |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH09190899(A) |
申请公布日期 |
1997.07.22 |
| 申请号 |
JP19960002865 |
申请日期 |
1996.01.11 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
ANAMI HIDETOSHI;SASAKI SHINJI;INABA HIROSHI;KATAOKA HIROYUKI;KOKADO YUICHI;HONDA YOSHINORI;FUJIMAKI SHIGEHIKO;OTSUBO TORU |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C14/22;C23C16/50;G11B7/26;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
