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发明名称 Verfahren zum Ätzen von Mehrschicht-Photolack mit geringer Unterätzeigenschaft und keiner Veränderung des Photolacks während des Ätzens
摘要
申请公布号 DE69126455(D1) 申请公布日期 1997.07.17
申请号 DE19916026455 申请日期 1991.02.21
申请人 APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 LEVY, KARL B., LOS ALTOS, CALIFORNIA 94024, US
分类号 G03F7/11;G03F7/09;G03F7/095;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/32 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
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