首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Charakterisierung dünner Schichten in der Halbleiterbauelementeproduktion
摘要
申请公布号 DE19526015(C2) 申请公布日期 1997.07.17
申请号 DE19951026015 申请日期 1995.07.17
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 STADTMUELLER, MICHAEL, DR.-ING.-PHYS., 81737 MUENCHEN, DE
分类号 H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66;G01N21/35 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com