发明名称 废蚀刻液重复使用的方法
摘要 一种重复使用蚀刻过程中产生的废液的方法,其中用含氨的碱性氯化铜蚀刻剂蚀刻铜制品,同时用萃取溶剂从废液中连续选择性地萃取铜,可防止由于大量萃取溶剂混入再生的蚀刻液中使蚀刻速率下降。通过将废液和萃取溶剂搅拌混合在一起,然后将混合物分离成原组分的方法来再生废蚀刻液。有较低铜浓度的再生蚀刻液重复用于蚀刻操作,而含铜的萃取溶剂进行反萃取,以致其中的铜转移到硫酸和硫酸铜的水溶液中。此后,用清洗液如冷水、热水或稀盐酸清洗萃取溶剂,从萃取溶剂中除去硫酸。
申请公布号 CN1154723A 申请公布日期 1997.07.16
申请号 CN95194453.3 申请日期 1995.08.23
申请人 株式会社艾恩;艾奇株式会社 发明人 细田秀司;小野薰;糟谷丰;长尾稔
分类号 C23F1/46;B01D11/04 主分类号 C23F1/46
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈季壮
主权项 1.一种重复使用在蚀刻过程中产生的废液的方法,其中用含氨碱性氯化铜蚀刻剂蚀刻铜制品,同时用萃取溶剂从废液中连续和选择性地萃取铜,其特征在于,该法包括:(a)使废液与萃取溶剂连续搅拌混合,将混合物分成含铜的萃取溶剂和有较低铜含量的再生液,同时将有较低铜含量的再生液重复用于蚀刻操作的工艺;(b)使含有从废液中萃取的铜的萃取溶剂和硫酸和制得的硫酸铜的水溶液搅拌混合,以致铜和硫酸的浓度保持在预定的范围内,然后分离混合物,以致萃取溶剂中的铜迁移到硫酸和硫酸铜的水溶液中的反萃取工艺;(c)用清洗液如冷水、热水或稀盐酸清洗通过反萃取工艺分离出的萃取溶剂以从中除去硫酸的工艺;(d)经如此清洗的萃取溶剂重复用于萃取和再生废蚀刻液的工艺;以及(e)通过电解从由于反萃取含有较高铜浓度的硫酸和硫酸铜的水溶液中收集金属铜的工艺。
地址 日本长野