UN PROCEDIMIENTO PARA ESTRUCTURACION EN EL CAMPO SUBMICRON ESTA CARACTERIZADO POR LOS SIGUIENTES PASOS: SE REUNE UNA CAPA FOTORESISTENTE DE UN COMPONENTE DE POLIMERO CON GRUPOS FUNCIONALES QUE ESTAN CAPACITADOS PARA UNA REACCION CON AMINAS PRIMARIAS O SECUNDARIAS Y GRUPOS IMIDOS QUE BLOQUEAN EL NITROGENO, DE UN FOTOINICIADOR LIBERADO POR LA EXPOSICION DE UN ACIDO Y DE UN DISOLVENTE APROPIADO; ENTE SE SECA; LA CAPA FOTORESISTENTE EXPUESTA SE SOMETE A UN TRATAMIENTO DE TEMPERATURA ; ESTRUCTURA FOTORESISTENTE; RATA CON UN AGENTE QUIMICO QUE CONTENGA UN AMINO PRIMARIO O SECUNDARIO; EN EL REVELADO SE GRADUA UN NIVEL DE OSCURIDAD DEFINITIVO EN UN CAMPO ENTRE 20 Y 100 NM.
