| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING AND DRYING METHOD AND APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09186127(A) |
申请公布日期 |
1997.07.15 |
| 申请号 |
JP19950352274 |
申请日期 |
1995.12.28 |
| 申请人 |
SHIII & I:KK |
发明人 |
KASHIWADA MASAO;SHIRAIWA YASUMASA |
| 分类号 |
B08B3/00;F26B5/04;F26B23/04;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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