发明名称 PROCESS FOR PRODUCING AN MOS TRANSISTOR
摘要 <p>Ein MOS-Transistor weist eine Gateelektrode (33) mit T-förmigem Querschnitt auf. Die Gatelänge wird in einem ersten Strukturierungsschritt durch eine Spacertechnik definiert. Die Ausdehnung der Gateelektrode im oberen Bereich wird in einem zweiten Strukturierungsschritt definiert. Der MOS-Transistor ist mit einer Kanallänge unter 100 nm herstellbar.</p>
申请公布号 WO1997023902(A2) 申请公布日期 1997.07.03
申请号 DE1996002235 申请日期 1996.11.21
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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