发明名称 PROCESS AND CIRCUITRY FOR GENERATING CURRENT PULSES FOR ELECTROLYTIC METAL DEPOSITION
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von kurzen sich zyklisch wiederholenden unipolaren oder bipolaren pulsförmigen Strömen IG, IE zum Galvanisieren sowie eine Schaltungsanordnung zum Galvanisieren, mit der derartige pulsförmige Ströme IG, IE erzeugt werden können. Solche Galvanisierverfahren werden als Pulse-Plating-Verfahren bezeichnet. Erfindungsgemäß wird in den Galvanisiergleichstromkreis (5), bestehend aus einer Badgleichstromquelle (2) und einem Badwiderstand RB, der durch eine Galvanisierzelle (4) gebildet wird, die Sekundärwicklung (6) eines Stromtransformators (1) in Serie geschaltet. Die Primärwicklung (7) des Transformators hat eine größere Windungszahl als die Sekundärwicklung. Die Primärwicklung wird mit Pulsen hoher Spannung und vergleichsweise niedrigem Strom angesteuert. Der sekundärseitige hohe pulsförmige Strom kompensiert temporär pulsförmig den Galvanisiergleichstrom. Die Kompensation kann ein Mehrfaches des Galvanisierstromes betragen, so daß Entmetallisierungspulse mit großer Amplitude entstehen. Der Kondensator (10) führt durch Ladung und Entladung den Kompensationsstrom. Durch die Erfindung wird vermieden, daß beim Pulse-Plating die bekannten elektronischen Hochstromschalter, die infolge der großen Stromflußverluste unwirtschaftlich arbeiten, verwendet werden müssen.</p>
申请公布号 WO1997023665(A1) 申请公布日期 1997.07.03
申请号 EP1996004232 申请日期 1996.09.27
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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