发明名称 吸音垫结构改良
摘要 一种吸音垫结构改良,主要系提供能有效的来吸取声音之吸音垫,该吸音垫上设有一矩阵凸肋,该矩阵凸肋中分别承接有复数个纵向与横向排列之凸助,于该纵向与横向之凸助间设有复数个凹弧沟槽,藉该矩阵凸肋与纵向、横向规则排列之凸肋及凹弧沟槽能增大吸音垫的吸音面积,使声音撞至于吸音垫时,声音能有效的进入吸音垫被吸收,以达最佳的隔音效果。
申请公布号 TW309952 申请公布日期 1997.07.01
申请号 TW085206991 申请日期 1996.05.13
申请人 鸿来企业股份有限公司 发明人 黄再贵
分类号 E04B1/86 主分类号 E04B1/86
代理机构 代理人 郑念祖 台北巿长安东路一段二十三号十楼十之一室
主权项 1.一种吸音垫结构改良,主要是于该吸音垫上设有一矩阵凸肋,该矩阵凸肋中分别承接有复数个纵向与横向排列之凸肋,于该纵向与横向之凸肋间设有复数个凹弧沟槽,藉该矩阵凸肋与纵向、横向规则排列之凸肋及凹弧沟槽能增大吸音垫的吸音面积,使声音撞至于吸音垫时,声音能有效的被吸收。2.如申请专利范围第1项所述之吸音垫结构改良,其中,该吸音垫可贴覆于墙上,藉该吸音垫上的纵向与横向之凸肋及凹弧沟槽,能有效的来吸取室、内外之声音,或者是用于需吸音之处,以达有效的隔音效果。3.如申请专利范围第1项所述之吸音垫结构改良,其中,该吸音垫又可为上设有一矩阵沟槽,该矩阵沟槽中分别承接若干个纵向与横向排列之沟槽,于该纵向与横向之沟槽间凸设有若干个凸肋。图示简单说明:第一图,系本创作之外观立体示意图。第二图,系本创作之结构俯视示意图。第三图,系本创作之结构侧视示意图。第三-一图,系本创作之声音路径示意图。第四图,系本创作之实施例示意图。第五图,系本创作之另一实施例示意图。
地址 台北巿文林路七六四号六楼
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