发明名称 防止干涉图型之输入面板及其形成方法
摘要 一电阻层类型之输入面板包含一第一板(1),在该板之一表面上有一第一透明导电层(3);一第二板(2),在该板之一表面上有一第二透明导电层(4);第一板(1)及第二板(2)被安置成使该第一透明导电层(3)面向该第二透明导电层(4),在第一板(1)与第二板(2)之间安置有第一隔离物(5),该等第一隔离物(5)为非导电性且其高度不大于14μm,以及在第一板(1)与第二板(2)之间的该等第一隔离物(5)之间安置第二隔离物(6,6A),该等第二隔离物(6,6A)为非导电性且其高度不小于15μm。
申请公布号 TW309604 申请公布日期 1997.07.01
申请号 TW084104945 申请日期 1995.05.18
申请人 富士通股份有限公司 发明人 田中敏明;松田元一
分类号 G06F3/02 主分类号 G06F3/02
代理机构 代理人 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种电阻层类型之输入面板,其特征在于包含:一第一板(1),在其一表面上有一第一透明导电层(3);一第二板(2),在其一表面上有一第二透明导电层(4);该第一板(1)及该第二板(2)被安排成使该第一透明导电层(3)面向该第二透明导电层(4);在该第一板(1)与该第二板(2)之间安置第一隔离物(5),该等第一隔离物(5)为非导电性且其高度不大于14m,以及在该第一板(1)与该第二板(2)间之该等第一隔离物(5)之间安置第二隔离物(6,6A),该等第二隔离物(6,6A)为非导电性且其高度不小于15m。2.依据申请专利范围第1项所述之输入面板,其中该等第一隔离物(5)及该等第二隔离物(6,6A)以点形状或一网状形状形成。3.依据申请专利范围第1项所述之输入面板,其中该等第二隔离物(6,6A)是以0.5mm至20mm之间隔安置,而该等第一隔离物则以较小间隔安置。4.一种形成一电阻层类型之输入面板之方法,该方法包含下列步骤:a)在一第一板(1)上之一第一透明导电层(3)上形成第一隔离物(5),该等第一隔离物(5)为非导电性且其高度不大于14m;b)在该第一透明导电层(3)上形成第二隔离物(6,6A),该等第二隔离物(6,6A)为非导电性且其高度不小于15m;以及c)在该等第二隔离物(6,6A)上安置一第二板(2)使在该第二板(2)之一表面上形成之一第二透明导电层(4)面向该第一透明导电层(3)。5.依据申请专利范围第4项所述之方法,其中该步骤b)包含一在一摄影处理方法中使用一光敏电阻以形成第二隔离物(6)之步骤。6.依据申请专利范围第4项所述之方法,其中该步骤b)包含一在一印刷处理方法中使用一热塑性树脂,一热固性树脂或一光固性树脂以形成第二隔离物(6)之步骤。7.依据申请专利范围第4项所述之方法,其中该步骤b)包含以下步骤:以一树脂材料,一无机材料,或一有机材料与一无机材料之结合物所构成之小球或颗粒形成第二隔离物(6A);以及在该第一透明导电层(3)上散布该等第二隔离物(6A)。8.依据申请专利范围第7项所述之方法,其中该步骤b)更包含一使用一胶粘剂(7)将该等第二隔离物(6A)黏着至该第一透明导电层(3)之步骤。9.依据申请专利范围第7项所述之方法,其中散布该等第二隔离物(6A)之该步骤包含一使用一在预定位置上具有孔洞并被置于该第一透明导电层(3)上之膜片,使该等第二隔离物(6A)可被安置在该等预定位置上之步骤。图示简单说明:第一A及一B图系一熟知技艺输入面板之截面图;第二图系第一图输入面板之放大图,显示其控制电路;第三图系一例图,显示干涉图型之一范例;第四图系一依据本发明原理之输入面板之截面图;第五图系一例图,显示产生干涉图型之一机理;第六图系一形成第四图输入面板过程之流程图;第七A,七B及七C图系形成第四图输入面板过程之程序图;以及第八图系一依据本发明一第二实施例之输入面板之截面图。
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