发明名称 FUENTE DE PLASMA CON ACOPLAMIENTO CAPACITIVO DE RADIOFRECUENCIA.
摘要 UN PAR DE ELECTRODOS DE TAMAÑO NO SIMILAR (84, 70) SON GUIADOS POR UNA FUENTE DE RADIOFRECUENCIA PARA CREAR UN PLASMA. UN CAMPO MAGNETICO (100) ESTA ORIENTADO DE FORMA QUE SEA PARALELO A UNA SUPERFICIE DEL ELECTRODO PEQUEÑO (84). LA RESISTENCIA DEL CAMPO AUMENTA EN CUALQUIER LADO DEL ELECTRODO PEQUEÑO (84). SEGUN SE MUESTRA, LOS IONES SE ACELERAN ELECTROSTATICAMENTE FUERA DEL PLASMA, PERO PODRAN ACELERARSE TAMBIEN MAGNETICAMENTE, LOS ELECTRONES PUEDEN EXTRAERSE, ALTERNATIVAMENTE, O NO PODRAN SER UN MECANISMO ACELERADO.
申请公布号 ES2030376(T3) 申请公布日期 1997.07.01
申请号 ES19910630060T 申请日期 1991.08.29
申请人 KAUFMAN & ROBINSON, INC. 发明人 KAUFMAN, HAROLD R.;ROBINSON, RAYMOND S.
分类号 H01J37/32;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;H01J27/18 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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