| 发明名称 |
TARGET FOR CATHODE SPUTTERING AND PRODUCTION OF THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09170076(A) |
申请公布日期 |
1997.06.30 |
| 申请号 |
JP19960213760 |
申请日期 |
1996.08.13 |
| 申请人 |
W C HERAEUS GMBH |
发明人 |
KAARUUHAINTSU GOI;DEIBUITSUDO FURANSHISU RAPUTON;IERUKU SHIIRUKE;FURIITOHORUTO SHIERUTSU;BERUNAARU SEROORU;HANSU BOOMAIAA |
| 分类号 |
C01G15/00;C01G19/02;C04B35/01;C23C14/08;C23C14/34;H01B1/16;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C01G15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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