发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Plasmaätzung von Diamant
摘要
申请公布号 DE69218271(T2) 申请公布日期 1997.06.26
申请号 DE19926018271T 申请日期 1992.01.20
申请人 SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD., OSAKA, JP 发明人 NISHIBAYASHI, YOSHIKI, C/O ITAMI WORKS OF SUMITOM, ITAMI-SHI, HYOGO, JP;FUJIMORI, NAOJI, C/O ITAMI WORKS OF SUMITOMO, ITAMI-SHI, HYOGO, JP
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32;H01L21/306 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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