| 发明名称 |
PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION APPARATUS AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09162103(A) |
申请公布日期 |
1997.06.20 |
| 申请号 |
JP19950319985 |
申请日期 |
1995.12.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OTA HIROYA;NAKAYAMA YOSHINORI;SHIGENIWA AKIYOSHI;SAITO NORIO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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