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<p>Das Verfahren zur Herstellung eines Mikrosensors aus einer einkristallinen Siliziumscheibe (1) und einem Substrat (11) besteht aus den folgenden Verfahrensschritten: Aufbringen von elektronischen Funktionseinheiten (3) auf der Innenseite (2) der Siliziumscheibe (1); Herstellung von Abstandshaltern (10), beispielsweise durch Herausformen von Vertiefungen (13) aus dem Substrat (11); Herstellung von Löchern (14) im Substrat (11); Verbinden der Siliziumscheibe (1) mit dem Substrat (11) derart, dass die Innenseite (2) der Siliziumscheibe dem Substrat zugewandt ist; Dickenreduktion der Siliziumscheibe (1) von der Aussenseite (4) her, so dass eine dünne Siliziummembran (6) entsteht; Trennen der einzelnen Sensor-Zwischenprodukte; Unterbringen der Sensor-Zwischenprodukte auf feste Baugruppen (7); Anbringen von elektrischen Verbindungsmitteln (8) durch die Löcher (14) hindurch. Ein nach diesem Verfahren hergestellter Mikrosensor nutzt die Sensorfläche optimal, weil praktisch die gesamte Sensorfläche für die Siliziummembrane (6) zur Verfügung steht. Er vereinigt zudem die beiden Anforderungen der Trennung der prozessierten Siliziummembraninnenseite (2) vom zu messenden Medium und des flächenbündigen Einbaus.</p> |
