发明名称 ENDOLUMINAL GRAFT WITH INTEGRAL STRUCTURAL SUPPORT AND METHOD FOR MAKING SAME
摘要 <p>La présente invention concerne un implant (10) possédant une structure de support (26) qui comporte des sections de relâchement de la tension (30) se trouvant sur la surface interne, sur la surface externe, ou encore dans l'épaisseur de la paroi d'un élément de l'implant tubulaire (12). Cet implant (10) à structure de support peut comporter un élément de bordage (24) qui est co-extrudé en même temps que la structure de support (26) comportant des sections de relâchement de la tension (30), et qui est enroulé en spirales autour de l'implant tubulaire (10). La structure de support (26) comprend différents types de sections de relâchement de la tension (30) qui permettent l'expansion longitudinale et radiale, respectivement, de l'implant à structure de support. Les sections de relâchement de la tension peuvent également comprendre des extrémités libres formant des barbes (62) qui dépassent vers l'extérieur lors de l'expansion de l'implant à structure de support, et permettent d'ancrer l'implant dans un vaisseau sanguin ou une lumière du corps. Le procédé de fabrication de cet implant à structure de support consiste à choisir ou préparer une structure de support comportant des sections de relâchement de la tension, à co-extruder le support structurel en même temps qu'un élément de bordage, à former une spirale autour de l'implant tubulaire à l'aide de la structure co-extrudée, puis à fixer ladite structure co-extrudée à l'implant tubulaire.</p>
申请公布号 WO1997021401(A1) 申请公布日期 1997.06.19
申请号 US1995016497 申请日期 1995.12.08
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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