投影曝光设备及其方法

摘要

投影曝光设备及其方法。此设备包括光源、用来控制光强度的蝇眼透镜、至少二个以上用来衍射已通过蝇眼透镜的光二次或更多次的光圈、用来接纳光的聚光透镜、用来选择性地通过从聚光透镜入射的光的光掩模、用来对通过光掩模的光进行聚焦的投影透镜、以及用投影透镜聚焦过的光来制作图形的晶片。于是，光圈和光圈缝隙数目的增加就可提高光强度的均匀性并在晶片上获得掩模图形。而且，使图形尺寸和外形的改变减小可增大工艺裕度。

主权项

1.投影曝光设备，它包含：光源；用来控制上述光源所产生的光的强度的蝇眼透镜；至少二个以上用来使已通过上述蝇眼透镜的光衍射二次或更多次的光圈；用来接纳已通过上述光圈的光的聚光透镜；用来选择性地透过从上述聚光透镜入射的光的光掩模；用来使已通过上述光掩模的光聚焦的投影透镜；以及其上用上述投影透镜聚焦过的光来制造图形的晶片。