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发明名称
METHOD FOR FORMING A SILICON LAYER MAXIMIZED SURFACE AREA
摘要
申请公布号
KR1019970009855(B1)
申请公布日期
1997.06.18
申请号
KR1019920018627
申请日期
1992.10.09
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
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