| 发明名称 |
PROCEDIMENTO E DISPOSITIVO PER LA RIDUZIONE DELL'INSERIMENTO DI OSSIGENO IN UN MONOCRISTALLO DI SILICIO. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT1272189(B) |
申请公布日期 |
1997.06.16 |
| 申请号 |
IT1994RM00160 |
申请日期 |
1994.03.23 |
| 申请人 |
WACKER-CHEMITRONIC GESELLSCHAFT FURELEKTRONIK-GRUNDSTOFFE MBH |
发明人 |
OELKRUG HANS;SEGIETH FRANZ |
| 分类号 |
C30B15/00;C30B29/06;H01L21/208;(IPC1-7):H01L |
主分类号 |
C30B15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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