发明名称 多覆层盘聚焦方法和装置
摘要 一种以相同的速度和可靠性在一多覆层盘上聚焦的方法和装置,该方法和装置采用的步骤包括:对第一层,首先快速减小聚焦致动器电压以降低所述物镜,慢速升高聚焦致动器电压以提升物镜,并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第一层上聚焦;而对第二层,快速升高聚焦致动器电压以提升物镜,慢速减小聚焦致动器电压以降低物镜,并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第二层上聚焦。
申请公布号 CN1151069A 申请公布日期 1997.06.04
申请号 CN96111909.8 申请日期 1996.08.21
申请人 三星电子株式会社 发明人 金烙锡
分类号 G11B7/00 主分类号 G11B7/00
代理机构 柳沈知识产权律师事务所 代理人 马莹
主权项 1、一种用于在一多覆层盘的第一层或第二层上聚焦的方法,它通过随聚焦致动器电压的变化来提升或降低物镜,按照呈S曲线的聚焦误差信号的过零点的检测结果来进行聚焦,所述方法包括下列步骤:迅速降低所述聚焦致动器电压以使所述物镜下降;慢速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜缓慢提升;并且检测所述聚焦致动器电压的过零点从而聚焦在所述第一层上;迅速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜提升;慢速降低所述聚焦致动器电压以使物镜再次缓慢下降;并且检测所述聚焦致动器电压的过零点从而来聚焦在所述第二层上。
地址 韩国京畿道
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