发明名称 | 多覆层盘聚焦方法和装置 | ||
摘要 | 一种以相同的速度和可靠性在一多覆层盘上聚焦的方法和装置,该方法和装置采用的步骤包括:对第一层,首先快速减小聚焦致动器电压以降低所述物镜,慢速升高聚焦致动器电压以提升物镜,并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第一层上聚焦;而对第二层,快速升高聚焦致动器电压以提升物镜,慢速减小聚焦致动器电压以降低物镜,并且根据聚焦误差信号的检测状态来在第二层上聚焦。 | ||
申请公布号 | CN1151069A | 申请公布日期 | 1997.06.04 |
申请号 | CN96111909.8 | 申请日期 | 1996.08.21 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金烙锡 |
分类号 | G11B7/00 | 主分类号 | G11B7/00 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 马莹 |
主权项 | 1、一种用于在一多覆层盘的第一层或第二层上聚焦的方法,它通过随聚焦致动器电压的变化来提升或降低物镜,按照呈S曲线的聚焦误差信号的过零点的检测结果来进行聚焦,所述方法包括下列步骤:迅速降低所述聚焦致动器电压以使所述物镜下降;慢速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜缓慢提升;并且检测所述聚焦致动器电压的过零点从而聚焦在所述第一层上;迅速升高所述聚焦致动器电压以使所述物镜提升;慢速降低所述聚焦致动器电压以使物镜再次缓慢下降;并且检测所述聚焦致动器电压的过零点从而来聚焦在所述第二层上。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |