| 发明名称 |
Method of forming a boron-doped diamond film by chemical vapor deposition |
| 摘要 |
A method of forming boron-doped diamond film by, chemical vapor deposition (CVD) utilizing two-component system reactant gas doped with trimethyl borate.
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| 申请公布号 |
US5635258(A) |
申请公布日期 |
1997.06.03 |
| 申请号 |
US19950415646 |
申请日期 |
1995.04.03 |
| 申请人 |
NATIONAL SCIENCE COUNCIL |
发明人 |
CHEN, CHIA-FU;CHEN, SHENG-HSIUNG;HONG, TSAO-MING |
| 分类号 |
C23C16/27;(IPC1-7):B05D3/06;C23C16/30 |
主分类号 |
C23C16/27 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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