发明名称 COMPOSES PHOTO-INITIATEURS STABLES AUX ACIDES, COMPOSITION LES CONTENANT, LEUR UTILISATION ET PROCEDES LES UTILISANT
摘要 <P>L'invention concerne des composés de formule I<BR/>(CF DESSIN DANS BOPI)<BR/>dans laquelle R1 est, par exemple, un radical alkyle en C1 -C20 ou phényl(alkyle en C1 -C6 ), substitué ou non substitué; R2 , R3 et R4 sont chacun indépendamment un radical phényle ou biphénylyle, substitué ou non substitué; la somme des constantes sigma de Hammett ( SIGMA sigma ) des substituants présents sur les radicaux aromatiques R2 , R3 et R4 étant comprise entre +0,36 et +2,58; et G est un radical qui est capable de former des ions positifs. Ces composés sont utiles comme photo-initiateurs pour des compositions photopolymérisables qui contiennent des groupes acides, facultativement en présence d'un co-initiateur.<BR/>Application aux matières photosensibles.</P>
申请公布号 FR2741623(A1) 申请公布日期 1997.05.30
申请号 FR19960014199 申请日期 1996.11.21
申请人 CIBA GEIGY AG 发明人 CUNNINGHAM ALLAN FRANCIS;KUNZ MARTIN;KURA HISATOSHI
分类号 C07F5/02;C08F2/46;C08F2/48;C08F2/50;C08F4/42;C08F4/52;C09B69/02;C09B69/06;C09D5/46;G03F7/029;(IPC1-7):C07F5/02;B29C67/00;C09D5/03;C09D11/02;G03C9/08;G03F7/028 主分类号 C07F5/02
代理机构 代理人
主权项
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