摘要 |
<P>L'invention concerne des composés de formule I<BR/>(CF DESSIN DANS BOPI)<BR/>dans laquelle R1 est, par exemple, un radical alkyle en C1 -C20 ou phényl(alkyle en C1 -C6 ), substitué ou non substitué; R2 , R3 et R4 sont chacun indépendamment un radical phényle ou biphénylyle, substitué ou non substitué; la somme des constantes sigma de Hammett ( SIGMA sigma ) des substituants présents sur les radicaux aromatiques R2 , R3 et R4 étant comprise entre +0,36 et +2,58; et G est un radical qui est capable de former des ions positifs. Ces composés sont utiles comme photo-initiateurs pour des compositions photopolymérisables qui contiennent des groupes acides, facultativement en présence d'un co-initiateur.<BR/>Application aux matières photosensibles.</P>
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