| 摘要 |
Bei einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in einer Vakuumkammer (3) angeordneten Tiegel (4) zur Aufnahme des zu verdampfenden Materials, beispielsweise eines Metalls oder Metalloxids oder einer Mischung eines Metalls mit einem Metalloxid und mit einem in einem Abstand vom zu verdampfenden Material gehaltenen Substrat, beispielsweise einer über Walzen (5,6,7) geführten Folienbahn (8), ist beiderseits der die Folienbahn (8) am Tiegel (4) vorbeiführenden Beschichtungswalze (6) je eine Kammer (9,10) angeordnet, in der jeweils eine mit einer Mittelfrequenzquelle (19) verbundene Magnetronkathode (11 bzw. 12) vorgesehen ist, wobei jede der beiden Kammern (9,10) jeweils über einen eigenen Kanal (13,14) mit der Zone (20) unmittelbar zwischen der Beschichtungswalze (6) und dem Tiegel (4) verbunden ist, wobei beide Kammern (9,10) jeweils über Druckmittelleitungen (21,22) an Quellen (23,24) für ein Prozeßgas angeschlossen sind. <IMAGE> |
