| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR LASER ANNEALING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09139357(A) |
申请公布日期 |
1997.05.27 |
| 申请号 |
JP19950317525 |
申请日期 |
1995.11.10 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD |
发明人 |
KUSUMOTO NAOTO;TAKAYAMA TORU;YONEZAWA MASAHITO |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/02;H01L21/268;H01L21/336;H01L27/12;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/268 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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