| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR970008333(B1) |
申请公布日期 |
1997.05.23 |
| 申请号 |
KR19900018766 |
申请日期 |
1990.11.20 |
| 申请人 |
HITACHI MFG KK. |
发明人 |
FUKUDA, TAKUYA;OHUE, MICHIO;SONOBE, TADASI |
| 分类号 |
C23C14/40;C23C14/34;C23C14/35;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C14/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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