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发明名称 COATING PROCESS AND SUITABLE SUBSTRATE HOLDER
摘要 <p>Um eine geforderte minimale Variation des Einfallswinkels (a) von Beschichtungsmaterial an einem planen Substrat (3) einzuhalten, wird vorgeschlagen, das Substrat (3), gebogen eingespannt, der Verdampfungsquelle (1) auszusetzen.</p>
申请公布号 WO1997018342(A1) 申请公布日期 1997.05.22
申请号 CH1996000397 申请日期 1996.11.11
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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