发明名称 溶剂净化方法与装置
摘要 一种溶剂净化方法与装置,主要系在一蒸发段内含有低沸及高沸杂质之溶剂,其高沸杂质留下成为一种桶底废料,该溶剂蒸汽经一湿气分离器而被引入一冷凝器,其中该冷凝器内产生的冷凝液回到该湿气分离器中而作为湿气补取液;该冷凝器内部一部份未冷凝者供予一精馏段行分凝作用,因而得除去低沸杂质;其余已除去杂质的溶剂蒸汽也被冷凝并回收,以在液晶装置或IC制造的抗蚀剂洗丞与剥落步骤中再行使用,如此被污染的溶剂不必丢弃或至远处接受处理,因而便利使用溶剂的制程或步骤。
申请公布号 TW305767 申请公布日期 1997.05.21
申请号 TW085105563 申请日期 1996.06.06
申请人 木村化工机股份有限公司;夏普股份有限公司 发明人 小林和树;矢野谦介;足立教夫;松冈康司;高见龙男;森川裕汀
分类号 B01D1/00 主分类号 B01D1/00
代理机构 代理人 洪耀宗 台北巿复兴南路二段二九三之三号七楼之二
主权项 1.一种溶剂净化方法,该法包括以下步骤:在一蒸发器内将一种因于使用该溶剂之制程中处理电子装置而受低沸与高沸杂质污染的既用溶剂蒸发,其中高沸杂质留在蒸发器内成桶底废料而被除去,在该蒸发器中产生而含有低沸杂质之溶剂蒸汽则由该蒸发汽中取出,而该低沸杂质溶剂以水为最佳;而后经一湿气分离器而将此溶剂蒸汽导入一个冷凝器,因此被扣留于蒸汽内的湿气粒子被该分离器所捕获,该蒸汽在此冷凝器内局部冷凝而回到该分离器,并在其内作为一种湿气捕取液,该溶剂蒸汽之其余未冷凝物仍含有低沸杂质;又最后使该未冷凝溶剂蒸汽在一精馏塔中分凝而使该蒸汽冷凝液一部份成一种含有许多低沸杂质的液态废料并由塔中除去,其余溶剂蒸汽也被冷凝,但被回收以在电子装置制程中再予使用,如该溶剂在该制程中运作之整体纯净度得控制于一定范围内。2.如申请专利范围第1项所述之溶剂净化法,其中使用溶剂的程序是由液晶装置上洗濯并剥落抗蚀剂的步骤。3.一种溶剂净化装置,该装置包括:(a)一蒸发段,其内含有:一个蒸发器为蒸沸一种因处理电子装置而受低沸杂质与高沸杂质污染的既用溶剂,该处理在使用该溶剂以制造电子装置的制程中实施,有高沸杂质留在蒸发器中成为一种桶底废料而被取出,然后一种含有低沸杂质的溶剂蒸汽由该蒸发器取出;有一湿气分离器在该蒸器下游与之连接,为捕取留在那自蒸发器流出而含有低沸杂质的混合蒸汽中的湿气粒子;以及有一冷凝器在该湿气分离器下游与之连接为使自该湿气分离器流出的混合蒸汽局部冷凝以形成一种冷凝液而回到该湿气分离器做为一种湿气捕取液,该溶剂的其余未冷凝物仍含有低沸杂质;以及(b)一精馏段,在运作时与蒸发段相联,含有一精馏塔为使未冷凝之溶剂蒸汽分凝,因此其低沸杂质完全冷凝而由塔中取出,其余溶剂蒸汽也被冷凝并回收而成为净化之溶剂。4.如申请专利范围第3项所述之溶剂净化装置,其中的蒸发器属「薄膜下行式」,而湿气分离器为一个用冷凝器中所产生之冷凝作为湿气捕取液的填充塔。5.如申请专利范围第3项或第4项所述之溶剂净化装置,其中的精馏塔能由冷凝器直接以「蒸汽供给」的方式接收未在其内冷凝的蒸汽混合物。图示简单说明:第一图系为用以净化溶剂的机械装置,该装置设于本发明某一具体实例内;第二图系为在一段期间内观察溶剂中所含水量之变动,分别在有及没有一图所示机械装置的情况下作业;第三图系为类似的图说,也示出在一段期间内观察溶剂中所含抗蚀化合物浓度的变动,分别在有及没有上述机械装置的情况下作业。
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