发明名称 供制备粒状矽酸钠的方法
摘要 为了制备一具有SiO2/Na2 O莫耳比为1.7:1至4.1:1之聚密粒状矽酸钠,可将具有中值粒子直径<500μm之矽酸钠在经由压榨、粉碎及筛选以转成具有粒子大小为0.1至5毫米的压制粒状物之前,即先与一可增加其硬度之物质混合。
申请公布号 TW305822 申请公布日期 1997.05.21
申请号 TW083103626 申请日期 1994.04.23
申请人 赫斯特化工厂 发明人 亚历山大.坦派;刚特.史吉摩;格哈德.诺特纳;汉斯–彼德.瑞克
分类号 C01B33/06 主分类号 C01B33/06
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种供制备具有SiO2/Na2O莫耳比为1.7:1至4.1:1之紧密粒状矽酸钠的方法,此方法包括将具有中値粒子直径<500m之矽酸钠在经由压榨、粉碎及筛选以转变成具有粒子大小为0.1至5毫米的压制粒状物之前,即先与一可增加其硬度之物质紧密地混合,其中该可增加矽酸钠硬度之物质系一选自水、二氧化矽溶胶、矽胶、非离子性,阴离子性或阳离子性界面活性剂、水玻璃、液态或乾燥之水玻璃的溶液、马来酸及丙烯酸以及彼等之聚合物和共聚物的物质,且该可增加矽酸钠硬度之物质系以最高至5重量%的量加入矽酸钠中,而且该压制粒状物之转变系在15至180℃温度下操作。2.如申请专利范围第1项之方法,其中在制造该压制粒状物之后,矽酸钠将先以机械方式弄成圆形。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该压制好之粒状物可额外地用该可增加彼等硬度之物质以最高至6重量%,相对于该矽酸钠之量来涂覆。4.如申请专利范围第1项之方法,其中以该可增加彼等硬度之物质额外涂覆该压制粒状物系在15至130℃温度下进行。5.如申请专利范围第1项之方法,其中矽酸钠的成粒过程系在一配合有将该所生之薄片一贯作业地粉碎的滚轮压榨器上进行。
地址 德国