| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THAT COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09134014(A) |
申请公布日期 |
1997.05.20 |
| 申请号 |
JP19950290840 |
申请日期 |
1995.11.09 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
MAEKAWA YASUNARI;MIWA TAKAO;OKABE YOSHIAKI;ISHIDA MINA;HIRANO TOSHINORI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08K5/16;C08K5/17;C08K5/205;C08K5/32;C08L77/00;C08L101/06;C08L101/08;G03F7/038;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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