| 发明名称 |
MASK, AND FORMATION OF PATTERN OF THIN DIELECTRIC FILM USING SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09125228(A) |
申请公布日期 |
1997.05.13 |
| 申请号 |
JP19950306829 |
申请日期 |
1995.10.31 |
| 申请人 |
NIKON CORP |
发明人 |
WATANABE SHUNJI;HATTORI TETSUO |
| 分类号 |
C23C14/04;C23C14/14;(IPC1-7):C23C14/04 |
主分类号 |
C23C14/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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