| 主权项 |
1.一种用于液体烃流化催化热裂之装置,该装置包括一气化器,含供液体烃及蒸气之加压流进入之入口,其具有利用蒸气将液体烃及蒸气之加压流进入之入口,其具有利用蒸气将液体气化成细小微粒之装置,及气化液体之出口,一具有与出口相连之管状本体之喷嘴,本体具有一中心轴线,以及含凸出外表面及凹陷内表面之排放端,排放端之形状大致呈球形截面,几何中心位于轴线上,二张形排放孔口设于排放端上,孔口分别位于轴线两侧且与轴线等距,沿横亘轴线之方向延伸。2.根据申请专利范围第1项之装置,孔口弯折使得气化之液体流自孔口排出后,随着远离喷嘴之排放端而逐渐相互集中。3.根据申请专利范围第1项之装置,孔口弯折使得气化之液体流自孔口排出后,随着远离喷嘴之排放端而逐渐相互分离。4.根据申请专利范围第1项之装置,孔口彼此互相平行,使得气化之液体流易于孔口排出。5.根据申请专利范围第1项之装置,其本体为圆形截面,本体内径在靠近排放端时稍大于排放端内径,因而在喷嘴本体与排放端接合处,形成边缘有尖角的环状肩套。6.一种用于液体烃流化催化热裂之装置,该装置包括一气化器,含供液体烃及蒸气之加压流进入之入口,其具有利用蒸气将液体气化成细小微粒之装置,及气化液体之出口,一具有与出口相连之管状本体之喷嘴,本体具有中心轴线,以及含凸出外表面及凹陷内表面之排放端,排放端之形状大致呈球形截面,几何中心位于轴线上,许多排放孔口设于排放端上,且扣着与轴线棋亘方向加长,半数孔口位于轴线一侧,另一半则位于轴线另一侧。7.一种用于液体烃流化催化热裂之装置,该装置包括一具有内混合气化内室之气化头,一装置于气化头内且伸入内室之撞击钉,该撞击钉在未端设有一撞击面,气化头设有一入口可供加压液体进入内室而击打撞击钉之撞击面,气化头设有一气体入口可供蒸气进入内室,该气体入口非常接近撞击钉,以便蒸气以自撞击面向外之方向与导入内室之气化液体作用,气化头设有一供气化液体离开之出口,嗔嘴设有一管状本体与之连通,并有一靠进外端之排放孔可供气化液体释出。8.根据申请专利范围第7项之装置,气化头设有一二次气体入口,可供加压蒸气流进入内室,且穿越撞击钉之撞击面。9.根据申请专利范围第7项之装置,气化头设有一气体区,气体入口系与气体区连通之计量孔口,外形可绕着撞击面外围而释出环状蒸气流。10.根据申请专利范围第8项之装置,撞击钉内含连接气体区之轴向通道,撞击钉设有另一通道以连接轴向通道与计量孔。11.根据申请专利范围第10项之装置,该另一通道至少包括一径向通道与轴向通道连接,及具有一环状通道径向通道与计量孔。12.根据申请专利范围第11项之装置,气化头中设有一状套管绕着撞击钉摆置。13.根据申请专利范围第12项之装置,计量孔位于撞击钉及套管终端之间。14.根据申请专利范围第7项之装置,气化头在与入口端相反处设有一上游闭端。15.根据申请专利范围第14项之装置,该上游端系以一凹陷内表面,使内室之液体朝向出口且穿过喷嘴。16.根据申请专利范围第15项之装置,凹陷面之形状呈球形截面,几何中心位于内室纵轴线与撞击钉纵轴线交点上。17.一种用于液体烃流化催化热裂之装置,该装置包括一具有内部混合气化内室之气化头,及一装置于气化头内且伸入内室之撞击钉,气化头设有一液体入口可将加压液体沿撞击钉之方向导入内室,气化头设有一气体入口可供加压蒸气流沿撞击钉之方向导入内室,与导入内室之气化液体作用,气化头靠近撞击钉处设有一辅助气体入口,由此可供加压蒸气以自撞击钉未端向外之方向导入内室,对导入内室之液体进一步气化,气化头设有一出口供气化液离开,一与出口连接之喷嘴,包含排放孔可供气化液体释出。18.根据申请专利范围第17之装置,辅助气体入口系一计画孔,其形状系绕着撞击面外围而释出环状蒸气流。19.根据申请专利范围第18之装置,气化头中设有一环状套管以绕着撞击钉摆置,计量孔则位于撞击钉及套管终端之间。凹陷面之形状浧球形截面,几何中心位于内室纵图示简单说明:图一是催化热裂之气化喷雾装置的轴向剖面视图,它配置了具有本发明独特性质的新型改良式喷嘴。图二是图一所示之喷嘴的放大端面视图。图三为与图一大致相似的放大断裂图,但却显现出根据本发明的另一种具体实施例。图四是图三所示之喷嘴的端面视图。图五及图六相对于图三和图四类似,但显现喷嘴的另一种具体实施例。图七是用来催化热裂的气化喷雾装置之垂直剖面,为另一种有预先气化头的形式,特别适合液体流在相当低压下之高效率的气化喷雾。图八是有另一种预先气化头形式,用来催化热裂的气化喷雾装置之垂直剖面。 |
