| 摘要 |
<p>Es wird ein Plasmaspritzgerät (1) vorgeschlagen, mittels dem insbesondere auch eine poröse Beschichtung auf einem Substrat herstellbar ist, wobei Qualitätsschwankungen der Porosität weitgehend vermieden werden sollen. Dies wird dadurch erreicht, daß ein Plasmaspritzgerät (1) mit einem indirekten Plasmatron (3) zur Erzeugung eines Langlichtbogens (36) mit einem seitlichen Injektor (28) versehen wird.</p> |
