Es wird ein Plasmaspritzgerät (1) vorgeschlagen, mittels dem insbesondere auch eine poröse Beschichtung auf einem Substrat herstellbar ist, wobei Qualitätsschwankungen der Porosität weitgehend vermieden werden sollen. Dies wird dadurch erreicht, dass ein Plasmaspritzgerät (1) mit einem indirekten Plasmatron (3) zur Erzeugung eines Langlichtbogens (36) mit einem seitlichen Injektor (28) versehen wird.
申请公布号
WO9716947(A1)
申请公布日期
1997.05.09
申请号
WO1996DE01932
申请日期
1996.10.10
申请人
ROBERT BOSCH GMBH;JANSING, PETER;BRAUN, HARRY;BAUER, WALTER;WELLER, MARC
发明人
JANSING, PETER;BRAUN, HARRY;BAUER, WALTER;WELLER, MARC