首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Plasmaprozess, Verfahren und Gerät
摘要
申请公布号 DE69030347(D1) 申请公布日期 1997.05.07
申请号 DE19906030347 申请日期 1990.10.04
申请人 APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 MINTZ, DONALD M., SUNNYVALE, CA 94087, US;HANAWA, HIROJI, SANTA CLARA, CA 95051, US;SOMEKH, SASSON, LOS ALTOS HILLS, CA 94022, US;MAYDAN, DAN, LOS ALTOS HILLS, CA 94022, US
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/316;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com