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发明名称 Verfahren zum Herstellen eines polykristallinen Halbleiterdünnfilms
摘要
申请公布号 DE4421109(C2) 申请公布日期 1997.05.07
申请号 DE19944421109 申请日期 1994.06.16
申请人 FUJI ELECTRIC CO., LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 ASANO, AKIHIKO, KAWASAKI, KANAGAWA, JP
分类号 H01L21/20;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205;H01L21/768 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
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