| 发明名称 |
PLASMA REACTOR DEVICE WITH PARTITIONED BALANCE ELECTRODE FORTHE SAKE OF SPUTTERING PROCESS MATERIAL FROM TARGET SURFACE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09120958(A) |
申请公布日期 |
1997.05.06 |
| 申请号 |
JP19960231232 |
申请日期 |
1996.07.29 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
SHIYUU YUU CHIEN;AASAA EICHI SATOU |
| 分类号 |
C23F4/00;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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