| 发明名称 |
MAGNETRON UNIT FOR SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09118980(A) |
申请公布日期 |
1997.05.06 |
| 申请号 |
JP19950275721 |
申请日期 |
1995.10.24 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
YAGI HARUYOSHI;HOSODA TSUTOMU;HAYAKAWA YUKIO;JINBO TAKESHI |
| 分类号 |
C23C14/35;H01J23/10;H01L21/203;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):C23C14/35;H01L21/306 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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