Doping procedure for semiconductor growth processes,申请号EP19960303085-传众专利搜索

发明名称	Doping procedure for semiconductor growth processes
摘要
申请公布号	EP0742582(A3)	申请公布日期	1997.05.02
申请号	EP19960303085	申请日期	1996.05.01
申请人	AT&T IPM CORP.	发明人	CHIU, TIEN-HENG;WILLIAMS, MICHAEL D.;CURVELLO DE MENDONCA, CESAR AUGUSTO
分类号	C30B25/02;C30B25/18;C30B31/02;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/22;H01L21/322;H01L29/36;(IPC1-7):H01L21/22	主分类号	C30B25/02
代理机构		代理人
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