发明名称 成膜装置用构成组件及其制造方法
摘要 本发明之目的在于提供一种成膜装置用构成组件及其制造方法,包括将带有或不带有凹凸程度达数mm之不均匀表之面铝合金制或铝制组件浸渍于硫酸、磷酸、草酸、或铬酸之任一种酸液中,再予以水洗、乾燥。此种组件可以防止成膜材料镀层在成膜作业期间剥离。
申请公布号 TW304207 申请公布日期 1997.05.01
申请号 TW084104280 申请日期 1995.04.29
申请人 真空技术股份有限公司 发明人 小崎宽夫;佐草信之;长谷川努;诹访秀则
分类号 C23C22/46 主分类号 C23C22/46
代理机构 代理人 洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项 1. 一种成膜装置用构成组件,其特征在于:系由铝或铝合金所构成,或由表面设有大小数毫米(mm)或毫米以下之凹凸的铝或铝合金所构成,该成膜装置用构成组件系预先浸渍于硫酸,磷酸,草酸,铬酸之任一者中,成膜中附着堆积的成膜材料不会剥离脱落。2. 一种成膜装置用构成组件之制造方法,其特征在于:在制造由铝或铝合金所构成之成膜装置用构成组件,或,由表面设有大小数毫米或毫米以下之凹凸的铝或铝合金所构成的成膜装置用构成组件时,使用浓度3-25%之硫酸、磷酸、草酸、铬酸之任一酸浸渍该等组件;在常温用硫酸浸渍24小时,或在常温用磷酸、草酸或铬酸浸渍1星期以上。图示简单说明:图1系表示设于实施例1之铝合金平板的凹凸,A为部份平面图,B为部分侧面图。图2系表示设于实施例3之铝合金平板的凹凸,A为部份平面图,B为部分侧面图。图3系有关实施例1及比较例之防附着板的气体释出速度图。图4系习知例之1种,作为比较例之防附着板的部份断面图
地址 日本