APARATO REACTOR DE PLASMA Y METODO DE TRATAMIENTO DE UN SUBSTRATO.

摘要

SE DESCRIBE UN MECANISMO Y METODO PARA TRATAR UN SUBSTRATO CON UNA ESPECIE EXCITADA SEPARADA DE UN PLASMA (15, 15A, 31, 52, 53). EL MECANISMO INCLUYE TUBOS EN LOS EXTREMOS CERRADOS O ABIERTOS (13, 22, 30, 54 Y 55) CON APARATOS U ORIFICIOS (16, 32, 56 Y 57) PARA DIRIGIR LA ESPECIE EXCITADA A UN SUBSTRATO (17, 33, 59) Y UNA PLACA GRADUABLE O CORTACIRCUITO DESLIZANTE (11, 38, 39, 40) EN LA PARTE INTERIOR O EXTERIOR DE LOS TUBOS PARA SITUAR EL PLASMA EN EL TUBO DURANTE EL MANEJO DEL MECANISMO. SE UTILIZA LA POSICION DE REGULACION O BOQUILLAS O LAS VARIACIONES DE POTENCIA. EL METODO Y MECANISMO SON UTILES PARA DEPOSITAR PELICULAS, GRABADOS Y SIMILARES.