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SE DESCRIBEN COMPUESTOS QUE CONTIENEN: A) UN MATERIAL ORGANICO SENSIBLE CONTRA DESCOMPOSICION INDUCIDA POR LA LUZ, TERMICA Y/O OXIDATIVA Y B POR LO MENOS UN COMPUESTO DE LA FORMULA I Y/O II (II), EN LA QUE R0 ES HIDROGENO, ALQUILO C1-C12, CICLOALQUILO C5C12, ALQUENILO C2-C12, FENILO-ALQUILO-C1-C4,-C0-R5 O -CO-OR5, R1 SIGNIFICA HIDROGENO, METILO ETILO O JUNTO CON R2 R2 ES HIDROGENO, METILO, ETILO O JUNTO CON R1 R3 SIGNIFICA HIDROGENO, METILO, ETILO O JUNTO CON R4 R4 ES HIDROGENO, METILO, ETILO O JUNTO CON R3 R5 ES ALQUILO C1-C18, CICLOALQUILO C5-C12, FENILO-ALQUILO-C1-C4, O FENILO, R6 Y R7 SIGNIFICAN CON INDEPENDENCIA ENTRE SI HIDROGENO, ALQUILO C1-C12, CICLOALQUILO C5-C12, FENILO O FENILO-ALQUILO-C1-C4, R8ES ALQUILO-C1-C4 Y N REPRESENTA 0, 1 O 2, CON LA RESERVA DE QUE EN LA FORMULA II R3NO REPRESENTA HIDROGENO. LOS COMPUESTOS DE LAS FORMULAS I O II ACTUAN BIEN, EN PARTICULAR, COMO OXIDANTES, ASI COMO ESTABILIZADORES DE PROCESADO PARA POLIMEROS SINTETICOS.
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